信越化学建新厂，半导体材料日本集聚

在半导体部分材料等领域，日本企业之前有在海外建立生产和研发基地的趋势。作为战略物资，各国正在推进半导体产业的集聚。日本也在致力于半导体的国内生产。信越化学时隔55年在日本国内建半导体材料新工厂……

日本经济新闻4月8日获悉，信越化学工业将在日本群马县建设半导体材料的新工厂。这是该公司56年来首次在日本国内新建生产基地。三井化学也将在日本山口县的基地完善增产体制。在半导体的制造设备和材料方面，日本企业的市场占有率较高的产品较多。作为战略物资，各国正在推进半导体产业的集聚，在日本，包括材料在内的供应链的构建也在全面启动。

信越化学的新工厂将于2026年竣工，生产在半导体晶圆上绘制电路的光刻工序使用的材料，如光刻胶(感光材料)和原版材料。将在群马县伊势崎市取得约15万平方米的业务用地，投资约830亿日元。这是继1970年鹿岛工厂以来首次在日本国内新建氯乙烯树脂工厂。

在光刻材料中，光刻胶是日本企业具有优势的材料之一。特别是信越化学，全球市场份额约为2成，如果仅限于尖端产品，预计在4成以上。目前在新潟县和台湾生产，台湾的工厂于2021年、新潟的工厂于2022年扩建。新基地作为半导体材料的战略基地，除了承担对韩国和美国等的出口之外，未来还将从事研发。

三井化学将扩建用于生产保护半导体电路原版的薄膜材料“Pellicle”的山口县工厂。将投资50亿～90亿日元，于2025～2026年量产性能高于以往产品的产品。在利用光刻设备以激光照射半导体晶圆、绘制电路之际，Pellicle可防止原版产生损伤和灰尘附着。（来源：日经中文网）